Vyhledávat v databázi titulů je možné dle ISBN, ISSN, EAN, č. ČNB, OCLC či vlastního identifikátoru. Vyhledávat lze i v databázi autorů dle id autority či jména.

Projekt ObalkyKnih.cz sdružuje různé zdroje informací o knížkách do jedné, snadno použitelné webové služby. Naše databáze v tuto chvíli obsahuje 2895052 obálek a 875008 obsahů českých a zahraničních publikací. Naše API využívá většina knihoven v ČR.

Registrovat »    Zapomenuté heslo?

Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching

Rok: 1980
ISBN: 9780471078289
OKCZID: 110073652

Citace (dle ČSN ISO 690):
CHAPMAN, Brian. Glow discharge processes: sputtering and plasma etching. New York: John Wiley & Sons, c 1980. xv, 406 s.

Hodnocení: 3.5 / 5 (6 hlasů)


Anotace

Upravit anotaci
 

Develops detailed understanding of the deposition and etching of materials by sputtering discharge, and of etching of materials by chemically active discharge. Treats glow discharge at several levels from basic phenomena to industrial applications—practical techniques diligently related to fundamentals. Subjects range from voltage, distributions encountered in plasma etching systems to plasma-electron interactions that contribute to sustaining the discharge.


Dostupné zdroje

Amazon


Přidat komentář a hodnocení

Od: (127.0.0...)