Vyhledávat v databázi titulů je možné dle ISBN, ISSN, EAN, č. ČNB, OCLC či vlastního identifikátoru. Vyhledávat lze i v databázi autorů dle id autority či jména.
Projekt ObalkyKnih.cz sdružuje různé zdroje informací o knížkách do jedné, snadno použitelné webové služby. Naše databáze v tuto chvíli obsahuje 3151204 obálek a 950590 obsahů českých a zahraničních publikací. Naše API využívá většina knihoven v ČR.
Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques
Autor: Shul, Randy J.
Rok: 2000
ISBN: 9783540667728
OKCZID: 110080249
Citace (dle ČSN ISO 690):
PEARTON, Stephen, ed. Handbook of advanced plasma processing techniques. Berlin: Springer-Verlag, c2000. xiv, 653 s.
Anotace
This volume covers the topic of advanced plasma processing techniques, from the fundamental physics of plasmas to diagnostics, modeling and applications such as etching and deposition for microelectronics. The use of plasmas for patterning on a submicron scale has enabled successive generations of continually smaller transistors, lasers, micromachines, sensors and magnetic read/write heads that have formed the basis of our information age. This volume is the first to give coverage to this broad area of topics in a detailed fashion, especially in the rapidly expanding fields of micro-mechanical machines, photomask fabrication, magnetic data storage and reactor modeling. It provides the reader with a broad array of topics, authored by the leading experts in the field.