Vyhledávat v databázi titulů je možné dle ISBN, ISSN, EAN, č. ČNB, OCLC či vlastního identifikátoru. Vyhledávat lze i v databázi autorů dle id autority či jména.
Projekt ObalkyKnih.cz sdružuje různé zdroje informací o knížkách do jedné, snadno použitelné webové služby. Naše databáze v tuto chvíli obsahuje 3150518 obálek a 950589 obsahů českých a zahraničních publikací. Naše API využívá většina knihoven v ČR.
Perfektní expozice : expozice pro lepší (digitální) fotografie
Autor: Freeman, Michael
Rok: 2009
ISBN: 9788074130335
NKP-CNB: cnb001995010
OCLC Number: (OCoLC)465282629
OCLC Number: (ocolc)465282629
OKCZID: 110350040
Vydání: Vyd. 1.
Půjčte si tento titul v knihovně přes portál Knihovny.cz
Citace (dle ČSN ISO 690):
FREEMAN, Michael. Perfektní expozice: expozice pro lepší (digitální) fotografie. Vyd. 1. Brno: Zoner Press, 2009. 192 s.
Hodnocení:
3.5 / 5
(4 hlasů)
Anotace
Kniha může být vhodnou příručkou jak pro začátečníky, tak i pro pokročilé a zkušenější fotografy, kterým poskytne možnost utřídit jejich dosavadní znalosti a zkušenosti. Michael Freeman, který je autorem řady oceňovaných publikací, ale především mezinárodně uznávaným fotografem, dokáže zkombinovat zajímavý text s vlastními fotografiemi, které skvěle dokreslí vysvětlovanou problematiku.
