Vyhledávat v databázi titulů je možné dle ISBN, ISSN, EAN, č. ČNB, OCLC či vlastního identifikátoru. Vyhledávat lze i v databázi autorů dle id autority či jména.
Projekt ObalkyKnih.cz sdružuje různé zdroje informací o knížkách do jedné, snadno použitelné webové služby. Naše databáze v tuto chvíli obsahuje 3151651 obálek a 950616 obsahů českých a zahraničních publikací. Naše API využívá většina knihoven v ČR.
Autor: Shimura, Fumio
Rok: 1994
ISBN: 9780127521428
NKP-CNB: aba013-000010835
OKCZID: 129423800
This volume reviews the latest understanding of the behavior and roles of oxygen in silicon, which will carry the field into the ULSI era from the experimental and theoretical points of view. The fourteen chapters, written by recognized authorities representing industrial and academic institutions, cover thoroughly the oxygen related phenomena from the crystal growth to device fabrication processes, as well as indispensable diagnostic techniques for oxygen.
Zdroj anotace: OKCZ - ANOTACE Z WEBU