Vyhledávat v databázi titulů je možné dle ISBN, ISSN, EAN, č. ČNB, OCLC či vlastního identifikátoru. Vyhledávat lze i v databázi autorů dle id autority či jména.
Projekt ObalkyKnih.cz sdružuje různé zdroje informací o knížkách do jedné, snadno použitelné webové služby. Naše databáze v tuto chvíli obsahuje 3151651 obálek a 950616 obsahů českých a zahraničních publikací. Naše API využívá většina knihoven v ČR.
Handbook of Sputter Deposition Technology : Principles, Technology and Applications
Autor: Wasa, Kiyotaka
Rok: 1992
ISBN: 9780815512806
OKCZID: 110108291
Vydání: 1. ed.
Citace (dle ČSN ISO 690):
WASA, Kiyotaka a HAYAKAWA, Shigeru, ed. Handbook of Sputter Deposition Technology: Principles, Technology and Applications. 1. ed. Park Ridge: Noyes Publications, 1992. v-xii, 304 s. Materials Science and Process Technology Series.
Anotace
A concise, comprehensive overview of sputter deposition technologyùa key technology for materials research in the next decade. Cathode sputtering is widely used in the microelectronics industry for silicon integrated circuit production and for metallurgical coatings. High temperature superconductors can be synthesized with sputtering under non-equilibrium conditions. Diamond films and ferroelectric materials are other applications.