Vyhledávat v databázi titulů je možné dle ISBN, ISSN, EAN, č. ČNB, OCLC či vlastního identifikátoru. Vyhledávat lze i v databázi autorů dle id autority či jména.

Projekt ObalkyKnih.cz sdružuje různé zdroje informací o knížkách do jedné, snadno použitelné webové služby. Naše databáze v tuto chvíli obsahuje 2895566 obálek a 875351 obsahů českých a zahraničních publikací. Naše API využívá většina knihoven v ČR.

Registrovat »    Zapomenuté heslo?

Low Temperature Plasma Physics: Fundamental Aspects and Applications



Rok: 2001
ISBN: 9783527288878
OKCZID: 110050581

Citace (dle ČSN ISO 690):
HIPPLER, Rainer, ed. Low temperature plasma physics: fundamental aspects and applications. 1st ed. Berlin: Wiley-VCH, c2001. 523 s.


Anotace

 

Low-temperature plasma physics is a very active area of research located on the boundaries between physics, chemistry and materials science. Recent technological developments, e.g. in plasma etching or plasma deposition, have led to a revived interest in plasma physics and technology. This volume describes in detail fundamentals and applications of low-temperature plasma physics including newest achievements. The authors of this volume are top scientists from the USA and Europe who present most recent successes in our understanding of how plasmas behave and put a strong focus on the links between theory and experiment or technological process.


Dostupné zdroje

Amazon


Přidat komentář a hodnocení

Od: (127.0.0...)