Vyhledávat v databázi titulů je možné dle ISBN, ISSN, EAN, č. ČNB, OCLC či vlastního identifikátoru. Vyhledávat lze i v databázi autorů dle id autority či jména.

Projekt ObalkyKnih.cz sdružuje různé zdroje informací o knížkách do jedné, snadno použitelné webové služby. Naše databáze v tuto chvíli obsahuje 2903936 obálek a 875771 obsahů českých a zahraničních publikací. Naše API využívá většina knihoven v ČR.

Registrovat »    Zapomenuté heslo?

Perfektní expozice : expozice pro lepší (digitální) fotografie



Autor: Freeman, Michael
Rok: 2009
ISBN: 9788074130335
NKP-CNB: cnb001995010
OCLC Number: (OCoLC)465282629
OKCZID: 110350040
Vydání: Vyd. 1.

Citace (dle ČSN ISO 690):
FREEMAN, Michael. Perfektní expozice: expozice pro lepší (digitální) fotografie. Vyd. 1. Brno: Zoner Press, 2009. 192 s.

Hodnocení: 3.3 / 5 (3 hlasů)


Anotace

 

Kniha může být vhodnou příručkou jak pro začátečníky, tak i pro pokročilé a zkušenější fotografy, kterým poskytne možnost utřídit jejich dosavadní znalosti a zkušenosti. Michael Freeman, který je autorem řady oceňovaných publikací, ale především mezinárodně uznávaným fotografem, dokáže zkombinovat zajímavý text s vlastními fotografiemi, které skvěle dokreslí vysvětlovanou problematiku.


Dostupné zdroje

NK Praha
Svaz českých nakladatelů a knihkupců
Knihy.ABZ.cz
Můj antikvariát
Databázeknih.cz
Československá bibliografická databáze


Přidat komentář a hodnocení

Od: (127.0.0...)